特種氣體供應商

特種氣體，是指在特定領域中應用的，對氣體有特殊要求的純氣，高純氣體，或者純氣體，由高純單質氣體配置的二元或者多元混合氣。

特種氣體在現代生活中運用廣泛，工廠、醫療、食品、娛樂等都涵蓋，下面列舉下部分特種氣體包括些什么：

1 氮氣-N2，純度要求>99．999%，用作標準氣體、在線儀表標準氣、校正氣、零點氣、平衡氣；用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入、等離子干刻、光刻，退火 搭接、燒結等工序；電器、食品包裝，化學等工業也要用氮氣。
2 氧氣-O2,>99．995％，用作標準氣體、在線儀表標準氣體、校正氣、零點氣；還可用于醫療氣，在半導體器件制備工藝中用于熱氧化，擴散、化學氣相淀積、等離子干刻等工序，以及用于光導纖維的制備。
3 氬氣-Ar，>99．999％，用作標準氣體、零點氣、平衡氣；甩于半導體器件制備工藝中晶體生長、熱氧化、外延，擴散、氮化，噴射，等離子干刻、載流、退火搭接，燒結等工序；特種混合氣與工業混合氣也使用氬。
4 氫氣-H2,> 99.999%，用作標準氣體、零點氣、平衡氣、校正氣、在線儀表標準氣; 在半導體器件制備工藝中用于晶體生長，熱氧化，外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等工序；在化學，冶金等工業中也有用。
5 氦氣-He，>99.999% ，用作標準氣體、零點氣 平衡氣，校正氣、醫療氣、用于半導體器件錯備工藝中晶體生長，等離子干刻 載流等工序；另外，特種混合氣與工業混臺氣也常用。四氯化硅-SiCl4，>99.999% ，用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。

6 四氯化錫-SnCl4，>99.9% ，用于外延，離子注入。
7 四氯化鍺-Gecl4 ，>99.999％，用于離子注入。
8 四氯化鈦-TiCl4，>99.99％，用于等離子干刻。
9 五氯化磷-PCl5 ，>99.99％，用于外延、離子注入。
10 五氯化銻-SbCl6 ，>99.99％，用于外延、離子注入。
11 六氯化鉬-MoCl6 ，>99.9% ，用于化學氣相淀積。
12 三溴化硼-BBr3，>99.99% ，用于半導體器件制備工藝中離子注入工序和制備光導纖維。
13 三溴化磷-PBr3 ，>99.99％，用于外延、離子注入。
14 磷酰氯-POCl3，>99.999％，用于擴散工序。
15 三氟化硼-BF3，>99.99％，用于離子注入，另外，可作載氣、某些有機反應的催化劑，精煉鎂，鋅、鋁、銅合金時從熔化金屬中除掉氮，氧、碳化物。